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[必博动态]半导体企业光刻工序废气处理 必博环保[ 2026-06-15 00:00   ]
  半导体企业光刻废气处理必博环保 核心结论:半导体光刻工序废气以大风量、低浓度VOCs为主体,主要包含IPA、PGMEA、HMDS等物质,治理需遵循分类收集、预处理、核心净化、末端管控的整体思路。必博环保结合现场工况推出三类成熟治理工艺,分别为沸石转轮搭配CO/RTO、活性炭吸附结合催化燃烧、冷凝回收加吸附组合工艺,全部满足半导体行业洁净、防爆、低运维的使用要求,整套系统VOCs去除率可稳定达到99%及以上。   一、光刻工序废气特性与治理难点   1.废气产生点
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